37000v威尼斯ALD实现高质量依(Ir)单质沉积
发布时间:
2019/01/10
金属铱单质在光学器件、催化等领域具有广泛的应用前果。37000v威尼斯电子利用PE-ALD设备攻克了铱源前驱体不易扩散等难点，成功实现高质量单质铱SEM结果显示(Ir）镀膜均匀,无空隙，完全满足高端用户的需求。
37000v威尼斯ALD实现高质量依(Ir)单质沉积
金属铱单质在光学器件、催化等领域具有广泛的应用前果。37000v威尼斯电子利用PE-ALD设备攻克了铱源前驱体不易扩散等难点，成功实现高质量单质铱SEM结果显示(Ir）镀膜均匀,无空隙，完全满足高端用户的需求。
SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD设备
Previous Page
Next Page
